第65部分

請關閉瀏覽器的閱讀/暢讀/小說模式並且關閉廣告遮蔽過濾功能，避免出現內容無法顯示或者段落錯亂。

是這樣！這下我明白了。”郭東邊說邊點頭，好像已經完全明白了的樣子。

只要使用第一代液晶技術當然很簡單，況且他們需要的比第一代技術更簡單，因此沒有什麼難度。他們唯一要解決的是溝槽的精度，使畫素點更細密。

不過相對於擁有奈米級加工工藝技術的長勝精工來說，就太簡單了。因為溝槽再怎麼精密，也只有u米級，這是液晶化合物分子的大小所決定的。

當第一塊液晶屏試製出來，在瞭解了技術細節之後，郭東就感嘆說：“看來這項技術的缺點也很明顯，它只能達到u米級精度，我們算是白忙活了。”

“也不能這麼說，其實日常生活中，低階別的晶片用的是最多的，比如普通的小家電所用的晶片以及普通的工控晶片。我們能減少低階別晶片的工序也是了不得的進步。”這時，權威專家洪濤就站出來給大家打氣了。

“唉！好吧！我們先試試吧！還不知道能不能代替鐳射刻蝕呢？”郭東又發感慨了，真是一個多愁善感的人。

要試很簡單，因為不是矽晶圓因此無須無氧環境，只要一間暗室就可以了。暗室也不是真的暗，黃光還是可以的。

他們實驗了一下，情況還好，只要掩模板與液晶屏隔得足夠近，大概幾奈米的樣子，光的漫散現象還是不嚴重。也就是說用液晶屏代替鐳射蝕刻掩模板獲得了成功，雖然只能用在低製程晶片技術上，但是因為圖形轉移快捷，可以說是非常有用的一項技術了。

接下來就是真正研製光刻機了。由於一些技術難點郭東他們還是長勝精工技術部的時候就早已解決了，因此他們直接進入了設計環節。

為了最大程度的提高效率和減少氬氣用量，郭東要技術員將工作臺裡面的活動機構的最大行程設定為5毫米。也就是說從最上面的鐳射到最下面的基片面只有5毫米，這個5毫米中間還有一個有缺口的托架，托架是放掩模板的平臺，它只能上下移動。而那個缺口就是為微型機械臂輸送掩模板用的。

掩模板至少得有一毫米厚，托架也至少得有二毫米厚，加上微型機械臂佔去了一點點厚度，也就是說在輸送掩模板的過程中，與上面的鐳射頭和下面的基片上下相差不到一毫米了，玩的就是這麼精密。

當然矽晶圓基片，它是最後才放進來的，而且微型機械臂是從下面輸送進來的，不佔用這5毫米的工作空間。

矽晶圓基片臺是真正的固定，它不需要移動。唯一能上下左右移動的就是鐳射頭。鐳射頭不止一個，而是一排。就像刷卡一樣，它只要刷一次就夠了。

看起來很簡單，其實他最難的是怎麼控制掩模板與基片之間只相差幾奈米，鐳射頭與掩模板之間只相差幾奈米。就是這一個難點就難住了許公司，這需要奈米級加工工藝才能做到。而恰好長勝投資集團就能做到，道理就是這麼簡單。

掩模板不止一塊，而是有許多塊。因此他有另外一套安置機構，就像機床的刀具換刀系統一樣。為了最大限度地節省空間，它是平行環繞在工作臺的周圍的，它能環繞轉圈，能根據電腦的指令，將下塊需要的掩模板輸送到微型機械臂的面前。原理和機床的數控換刀系統是差不多的。

為什麼要把工作臺設定的這麼薄呢？就是為了減少上下移動所花費的時間，還有也減少了運動勢能，這就相應的增加了上下移動的控制精度。

到了這時，如果僅僅從光刻機的角度看，長勝投資集團的晶片製程工藝已經超過了2017年的世界水平。郭東他們設計的光刻機甚至能達到10奈米以內的製程工藝，當然鐳射頭還需改進成為聚焦式鐳射頭。但是從純機械的角度看，他們是真的達到了。

不過晶片製程是一個系統的工程，不是簡單的機械精度就夠了，其實最制約製程工藝的是化學蝕刻環節。在以後的章節中我會祥細講解。

在以往的工業文中，有作者提到浸潤式鐳射技術，能翻倍提高蝕刻精度。那是因為當時所處的時代，鐳射精度低所導致的，長勝投資集團所用的極深紫外光是2016年才研發的技術，鐳射精度一下子提高了幾十倍，遠遠不是什麼浸潤式鐳射頭技術所能比擬的。

光刻機研製成功了，郭東他們進行了多次實驗，發現蝕刻精度非常高，已經完全達到或超過了要求。洪濤甚至直言自家的技術已經遠遠超過了美國，他能這麼說，是有道理的。

他是留美電子工程博士，他在美國見過光刻機實物。也知道他們的晶片製程工藝級別。雖然已經過了好多年，但他根據摩爾定律推測，自家