第1472章 光刻機二
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式投影光刻機獲得成功，光刻精度達到3微米，接近國際主流水平。1981年，神州科學院半導體所研製成功JK-1型半自動接近式光刻機。1982年，科學院109廠研製出了KHA-75-1光刻機，這些光刻機在當時的水平均不低，最保守估計跟當時最先進的相比最多也就不到4年差距。1985年，我們所研製出了分步光刻機樣機，這也是咱們國家第一臺分步投影式光刻機，當時與國外的差距不超過7年。”
韓所長的聲音變得越來越低沉，“只可惜進入九十年代後，我國光刻機光源長時間被卡在193奈米無法進步，這個技術非常關鍵……而且在八十年代，我國和花旗國的關係得到改善，很多過去對我們限制的高科技產品，現在都可以賣給我們了，國外的光刻機產品，價效比遠高於自我研發，我國光刻技術的研發和產業化實質上放棄了自主攻關。”韓所長說起這些，唏噓不已。
“韓所長，那您認為咱們現在重啟光刻機專案還來得及嗎？最大困難在哪裡？”林致遠聽老所長如數家珍說著這些，就知道自已這趟沒白來。最近轉碼嚴重，讓我們更有動力，更新更快，麻煩你動動小手退出閱讀模式。謝謝
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