第690章 晶片戰忽局

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這一刻，曹衛東想到了灣灣的某電。

在某電橫空出世之前，晶片廠的製造模式被稱作Idm。

即從晶片設計到完成成品。

都是由同一家公司完成的。

然而這就意味著晶片公司必須具有整個產業鏈上的技術與人才、生產製造裝置，導致每家公司都無法專精於晶片產業鏈上的某個環節，造成大量的資源浪費。

張仲謀認為，未來的晶片產業必定是要實現分工的，而晶圓製造這一領域，屬於整個晶片行業的底端。

晶圓是晶片的母體。

晶圓製造，則是將晶片設計圖紙真正在晶圓上蝕刻成電路的工藝技術。

於是他創辦了某電，專門做晶圓製造的代工。

這樣做的好處是把一大批創業期晶片設計公司解放出來，讓他們專注於自己天馬星空的設計方案，推動了晶片的快速發展，而把實際製造、需要大量裝置工藝與工人的的“髒活累活”交給代工廠們實現。

這種區別於Idm模式的晶片製造模式，被稱為代工廠模式。

之後的事情也證明了張仲謀的正確。

隨著個人計算機、手機的興起，以及對消費級晶片的需求量爆發式增長，從而誕生了很多晶片初創公司，這些公司無力承擔晶片全產業鏈的成本，因而紛紛主攻輕資產的晶片設計環節，而將製造交予臺積電這樣的專業化代工廠。

於是，臺積電逐漸騰飛。

曹衛東覺得，晶片代工的道路很適合星火電子廠。

他可以將星火電子廠打造成一家全產業鏈能力的Idm大廠，但是在非特定領域可以對外代工。

當然，其中還有一個隱患，就是光刻機。

君不見與某電同臺競爭的大陸本土晶圓代工企業中芯國際，由於一直苦於沒有高階光刻機供貨，至今也只能接接中低端的代工訂單，無法踏入高階晶片製造舞臺。

光刻機。

曹衛東低聲呢喃著。

在解決了EdA軟體卡脖子的問題後，除了推陳出新，推進自家EdA軟體發展之外，下一步，他還要著手解決光刻機的問題。

實際上，神州一直是光刻機設計製造生產大國。

1964年，神州科學院研製出65型接觸式光刻機；

1970年，神州科學院開始研製計算機輔助光刻掩膜工藝。

1977年，光刻機GK-3型半自動光刻機誕生，這是一臺接觸式光刻機。

1980年，清華大學研製第四代分部式投影光刻機，光刻精度達到3微米，接近國際主流水平，而直到這個時候，光刻機巨頭ASmL還沒誕生。

1981年，神州科學院半導體所研製成功JK-1型半自動接近式光刻機。

1982年，KhA-75-1光刻機誕生，這些光刻機跟當時最先進的canon相比最多也就不到4年的時間。

1985年，機電部45所研製出了分步光刻機樣機，透過電子部技術鑑定，認為達到美國4800dSw的水平。

此時，神州在分步光刻機上與國外的差距不超過7年。

但是很可惜，神州的光刻機研發之旅至此結束。

從這之後，神州開始大規模引進外資，在＂造不如買”“科學無國界”等思潮，光刻技術和產業化，停滯不前，許多光刻機等科技計劃被迫取消。

而在這期間，荷蘭的ASmL在整合了全世界的資源後，出奇制勝，成為光刻機絕對的霸主。

在ASmL成功的道路上，有兩大機遇。

一是浸潤式光刻技術，由此對應著dUV光刻機。

一是深紫外線光刻機技術，由此對應著EUV光刻機。

九十年代，乾式光刻機技術大行其道，其晶片生產工藝達到了65nm，接下來的目標是向著45nm前進。

然而乾式光刻機使用的是乾式介質，採用的光線有一大堆問題，非常難以解決。

這時候某電的林本堅就提出了一個觀點，即用水來充當介質。

經過試驗，他發現這一思路是可行的。

彼時的光刻機巨頭尼康、佳能。

這些大廠早就在乾式光刻機上投入了幾十億美元研究，投入太多，無法改弦更張。

而ASmL因為是一家小廠，秉承著光腳不怕穿鞋的理念，和某電合力研發浸潤式光刻機了。

最後就是ASmL與