第690章 晶片戰忽局

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臺積電研發浸潤式光刻機成功了。

這就是dUV光刻機。

經過了多年的發展，目前，dUV光刻機已經可以滿足絕大多數需求，可以覆蓋7nm及以上製程需求。

到了這時候，學者們的普遍觀點是，EUV將是下一代光刻技術。

EUV光刻機採用波長為10-14奈米的極紫外光作為光源，可使曝光波長一下子降到13.5nm，能滿足10nm以下的晶圓製造，並且還可以向5nm、3nm繼續延伸。

另外值得一提，早在20世紀80年代，大約是1985年，就有學者開始研究EUV光刻技術。

只可惜技術一直達不到要求，而且要消耗大量的資金，因此這一技術發展緩慢。

直到2015年，EUV光刻機才進入可量產階段。

“我記得之前看過資料，一臺EUV光刻機的造價高達6500萬美元，如果初期研究，投入的花銷還會更多，所以目前，我應該推進浸潤式光刻機的發展，這是符合時代潮流的，等透過浸潤式光刻機將星火電子廠做大做強後，再來推進EUV光刻機的研究。”

“雖然我可以從萬界商城中購買到全套技術，但以目前的環境、人才、社會形勢，還不到拿出完整浸潤式光刻機的時候，還需要等待啊。”

這個世界是複雜的，聯動的。

並不是有技術就可以為所欲為。

君不見腳盆雞在半導體如日中天，卻被美爹以非常非常血腥的方式瓜分肢解。

君不見華為前腳遙遙領先，後腳就被美帝無恥打壓。

曹衛東對此很警惕。

很快，他就在心裡制定了一套方案。

一方面，聯合神州科學院，悄然進行浸潤式光刻機的研究。

另一方面，提醒國家，以應對西方世界發動的輿論戰，防止出現自廢武功的事情。

“咦，這樣的話，我似乎可以成立一個戰忽局了，晶片戰忽局？”

“什麼浸潤式光刻機，那只是乾式光刻機改而已.......”

“什麼10nm，就是比常規晶片小一點而已.......”

“什麼浸潤式技術，什麼EUV光刻技術，乾式光刻技術才是未來的王道！”

“美帝，你看我們旁邊的腳盆雞、韓棒子、阿三哥，他們都有狼子野心啊.......”

想到這裡，曹衛東表情瞬間變得古怪起來。